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半導体・電子
精密検査装置で測定中の半導体ウェハのクローズアップ ― 多様な環境やウェハ製造プロセスに対応する高純度シーリングソリューションを象徴        Ask ChatGPT

Katon® では、電子機器、電気機器、そして半導体産業において、最高水準の信頼性と精密性が求められることを深く理解しています。当社のシーリングソリューションは、過酷な環境条件にも耐えうるよう設計され、安定した性能を発揮し、お客様の設備が常に円滑に稼働することを支えます。電気関連アプリケーション、半導体製造装置、または製造後の配管設備に至るまで、これら重要産業の厳しい要求に応える製品を開発・提供しています。


金属配線プロセス

半導体製造における金属配線プロセスは、デバイス間および層間をつなぐ重要な配線を形成する工程です。この工程には、物理気相成長(PVD)、金属化学気相成長(Metal CVD)、バリア層やシード層の成膜、電解めっき(ECP)などが含まれます。これらのプロセスでは、エラストマーシールが真空、プラズマ、反応性の高い金属前駆体、腐食性の薬液槽といった過酷な条件にさらされます。Katon® は、こうした厳しい環境に対応する高耐熱性FFKM Oリングおよびシールを提供し、安定したシーリング性能を実現します。

特長とメリット
  • 金属CVD装置用シールにおける優れた性能
  • プロセス用真空チャンバーでの高い信頼性
  • 高真空PVDおよびCVDチャンバーでの低アウトガス性と極めて少ないパーティクル発生
  • 電解めっき薬液および洗浄後の薬液環境でも化学的に安定
  • 高温および長時間サイクルを伴うプロセスに対応する優れた耐熱性
対応サイズ一覧
Katon® 材質 基本材質 Shore A (±5) 使用温度範囲 架橋方式
Katon® 7178W FFKM OFF-WHITE 78 -10℃~230℃/14℉~446℉ Peroxide
Katon® 9075C FFKM DARK AMBER 72 -10℃~317℃/14℉~602℉ Triazine
Katon® 8175C FFKM UMBER 77 -10℃~290℃/14℉~554℉ Peroxide
対応環境
推奨環境
  • 金属膜およびバリア層成膜のための高真空システム
  • 高温環境で稼働するシステム
  • 熱的および化学的安定性が重要となるガス供給、チャンバーシール、リッド部の用途
  • ダウンタイムおよびコンタミネーションを最小限に抑えるためにFFKMシールを採用する半導体製造工場(ファブ)
非推奨環境
  • 高純度シール性能を必要としない一般産業用途
  • 特殊グレードを使用しない状態で、特定のハロゲン化流体への耐性が求められる用途
  • UF₆ に曝される環境
サービス内容

Katonは、高品質なOリングを提供するだけではありません。お客様に寄り添い、最初から最後まで一貫した価値ある体験をご提供します。
当社のサービス内容は以下の通りです。

  • 専門的なコンサルティング
    経験豊富なエンジニアと製品スペシャリストが、お客様の具体的なニーズを丁寧にヒアリングし、最適なシールソリューションをご提案します。
  • カスタム対応
    サイズ、材質(FFKM、FKM、パーフロロエラストマーなど)、形状などを柔軟にカスタマイズし、お客様の用途に完璧に適合するガスケット・Oリングを製作します。
  • 迅速な納期対応
    先進的な製造設備と効率的な生産体制により、短納期での製造と納品を実現し、プロジェクトのスケジュールを確実にサポートします。
  • 技術サポート
    材料選定、使用環境に応じたアドバイス、トラブルシューティングなど、専門知識を持つサポートチームが常にお客様を支援します。
  • グローバル対応
    Katon®は世界中の産業分野に信頼性が高くコストパフォーマンスに優れたシーリングソリューションをお届けしています。

標準仕様のOリングから特殊用途向けのカスタムシールまで、Katon®は常にお客様に最適な解決策をご提案します。