符合的 濕製程 Katon®牌號
| Katon® 牌號 | 材料 | Shore A (±5) | 溫度 | 架橋系統 | 顏色 |
|---|---|---|---|---|---|
| Katon® 7175W | 全氟 | 75 | -10℃~230℃/14℉~446℉ | 過氧 | 白色 |
| Katon® 7975B | 全氟 | 75 | -10℃~230℃/14℉~446℉ | 過氧 | 黑色 |
半導體與電子產業
Katon® 專注於為電子與半導體產業提供精密密封件。這些領域中的設備通常運作於高溫、高壓或高腐蝕性的環境，同時對潔淨度與穩定性要求極高。這些產業中的設備往往需要長時間穩定運作，並承受極端製程條件，因此密封材料必須具備出色的耐久性、抗化學性與低汙染特性。Katon® 所開發的密封件可適用於各類製程與設備，從電氣元件到無塵室系統，均能有效提升密封效能並延長設備壽命。
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濕製程
KATON® 為在嚴苛濕式製程環境中運作的半導體設備提供高性能密封解決方案，涵蓋清洗、蝕刻、顯影與剝離等製程。這些應用會使密封件長時間接觸具侵蝕性的製程介質，因此化學相容性與可靠的密封性能至關重要。KATON® 材料專為支援多種半導體濕式製程應用而開發，從晶圓清洗、濕式蝕刻，到光阻與製程殘留物去除皆可適用。
密封性能亮點
KATON® 7975B 適用於多種半導體濕式製程環境，有助於簡化晶圓製造過程中的密封材料選擇。
廣泛的化學相容性
適用於多種濕式製程介質，包括酸、鹼、氧化性溶液、清洗劑及剝離化學品。
專為嚴苛的半導體濕式製程設計
適用於晶圓清洗、濕式蝕刻、顯影、光阻剝離、殘留物去除及化學品輸送等應用。
簡化密封材料選擇
單一多用途密封材料可減少針對不同製程化學品選用多種密封材料的需求。
支援可靠的密封性能
針對重視耐化學性、機械穩定性及可靠密封性能的半導體設備應用而設計。
可供尺寸規格表
適用環境與條件
建議應用
- 晶圓清洗與前處理
- 濕式蝕刻
- 顯影與光阻剝離
- 殘留物去除
- SC-1 與 SC-2 清洗
- Piranha / SPM 製程
- HF 氫氟酸製程
- 化學品輸送與分配系統
- 濕式工作台與製程模組
- 幫浦、閥門及流體控制元件
- 製程容器及化學品處理設備
不建議應用
- 超出已公布溫度或壓力範圍的操作條件
客製服務與支援
在 Katon，我們不僅提供高品質的 Katon ORing 產品，更致力於為客戶打造全方位的專業服務體驗。我們的服務包含：
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專業技術諮詢：我們的工程團隊與產品專家將深入了解您的應用需求，提供量身打造的密封解決方案。
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客製化選項：可依需求提供客製尺寸、材料配方與結構設計，確保密封件完美符合您的應用條件。
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快速交貨能力：憑藉先進製造設備與流程，我們能縮短生產與交期，協助您如期完成專案。
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技術支援服務：從材料選擇、應用建議到故障排除，我們的技術團隊隨時提供即時協助。
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全球服務網絡：Katon® 服務遍佈全球各大產業，致力於為各領域客戶提供穩定可靠、具成本效益的密封品牌。
無論您需要標準 O-Ring 或特殊應用的客製化密封件，Katon® 都能協助您找到最合適的密封件。