符合的 沉積製程 Katon®牌號
| Katon® 牌號 | 材料 | Shore A (±5) | 溫度 | 架橋系統 | 顏色 |
|---|---|---|---|---|---|
| Katon® 9175C | 全氟 | 72 | -10℃~317℃ / 14℉~602℉ | 三嗪 | 琥珀色 |
| Katon® 7175C | 全氟 | 78 | -10℃~230℃/14℉~446℉ | 過氧 | 米白色 |
| Katon® 8175C | 全氟 | 77 | -10℃~290℃/14℉~554℉ | 過氧 | 焦茶色 |
半導體與電子產業
Katon® 專注於為電子與半導體產業提供精密密封件。這些領域中的設備通常運作於高溫、高壓或高腐蝕性的環境，同時對潔淨度與穩定性要求極高。這些產業中的設備往往需要長時間穩定運作，並承受極端製程條件，因此密封材料必須具備出色的耐久性、抗化學性與低汙染特性。Katon® 所開發的密封件可適用於各類製程與設備，從電氣元件到無塵室系統，均能有效提升密封效能並延長設備壽命。
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沉積製程
在半導體製造中，沉積製程如 CVD（化學氣相沉積）、LPCVD、PECVD 等會使彈性體密封件暴露於高溫、高真空與化學反應性氣體中。為確保製程穩定性、設備稼動率與晶圓良率，所選密封材料必須同時具備 耐熱性、耐化學性與長時間密封完整性。Katon® 所開發之 FFKM O-ring 密封材料專為低微粒產生的沉積環境設計，具備低出氣率、高熱穩定性與極少粒子脫落，有效確保腔體潔淨與薄膜沉積品質穩定。
密封性能亮點
- 優異的耐高溫性能，適用於高溫沉積腔體環境
- 與沉積用反應性氣體具備高度相容性
- 低金屬離子與出色的耐化學性，確保極低出氣與微粒脫落，維持製程潔淨度
- 可供應標準與客製 O-ring 尺寸，適用於主流沉積平台
可供尺寸規格表
適用環境與條件
建議應用
- CVD、PECVD、LPCVD 與 ALD 系統等先進半導體沉積設備
- 暴露於高溫與高反應性前驅氣體的真空環境及閥門
- 要求低微粒產生與穩定密封的沉積工具設備
- 氣體輸送管線、腔體法蘭、上蓋密封等靜態密封部位
不建議應用
- 對密封純度無特殊要求的一般工業應用
- 未使用特殊配方時，接觸特定鹵素類化學品的應用
- 暴露於六氟化鈾（UF₆）的應用
客製服務與支援
在 Katon，我們不僅提供高品質的 Katon ORing 產品，更致力於為客戶打造全方位的專業服務體驗。我們的服務包含：
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專業技術諮詢：我們的工程團隊與產品專家將深入了解您的應用需求，提供量身打造的密封解決方案。
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客製化選項：可依需求提供客製尺寸、材料配方與結構設計，確保密封件完美符合您的應用條件。
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快速交貨能力：憑藉先進製造設備與流程，我們能縮短生產與交期，協助您如期完成專案。
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技術支援服務：從材料選擇、應用建議到故障排除，我們的技術團隊隨時提供即時協助。
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全球服務網絡：Katon® 服務遍佈全球各大產業，致力於為各領域客戶提供穩定可靠、具成本效益的密封品牌。
無論您需要標準 O-Ring 或特殊應用的客製化密封件，Katon® 都能協助您找到最合適的密封件。